- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
本設(shè)備為帶偏壓的桌面型單靶磁控鍍膜儀，可用于一般金屬薄膜的制備。設(shè)備同時(shí)配有偏壓電源，可以用來(lái)進(jìn)行進(jìn)行濺射前的等離子清洗和濺射過(guò)程中施加偏壓。
本套配置采用石英真空腔體，鍍膜過(guò)程全向可視，便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄，腔體設(shè)計(jì)開(kāi)啟方便，易于清理，十分適合實(shí)驗(yàn)室使用。同時(shí)設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái)，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì)，操作邏輯簡(jiǎn)單，操作界面直觀，利于上手。
單靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
產(chǎn)品名稱
桌面型偏壓?jiǎn)伟?a href="http://m.avvyy.com/productID/plistone-3899900-1.html" class="keyword_inherit" name="keyword_inherit" target="_blank">磁控濺射鍍膜儀
產(chǎn)品型號(hào)
CY-MSZ180PX-I-DC-Ｑ
樣品臺(tái)
外形尺寸
φ100mm
加熱溫度
≦500℃
可調(diào)轉(zhuǎn)速
≦20rpm
磁控靶槍
配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm
真空腔體
腔體尺寸
φ180mm X 215mm
觀察窗口
全向透明
腔體材料
高純石英
開(kāi)啟方式
上蓋拆卸式
真空系統(tǒng)
前級(jí)泵
低噪音雙極旋片泵
分子泵
低噪音大抽速渦輪分子泵
真空測(cè)量
復(fù)合真空計(jì)，量程:10-5~105Pa
抽氣接口
KF16
抽氣接口
KF40
排氣接口
KF16
系統(tǒng)真空
1.0×10-4Pa
供電電源
AC 220V 50/60Hz
抽氣速率
分子泵抽速600L/s，前級(jí)泵抽速1.1L/s
電源配置
電源數(shù)量
射頻電源一套
輸出功率500
其他參數(shù)
供電電壓
AC220V,50Hz
整機(jī)功率
2kW
整機(jī)尺寸
550mm X 350mm X400mm
500W
