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產(chǎn)品名稱：PECVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品型號(hào)：CY-PECVD-500T-SS
產(chǎn)品廠商：成越科儀
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簡單介紹：

PECVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)采用等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積技術(shù)，能夠利用高能量等離子體促進(jìn)反應(yīng)過程，有效提升反應(yīng)速度，降低反應(yīng)溫度

詳情介紹：

PECVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)采用等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積技術(shù)，能夠利用高能量等離子體促進(jìn)反應(yīng)過程，有效提升反應(yīng)速度，降低反應(yīng)溫度。適用于在光學(xué)玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜質(zhì)量好，針孔較少，不易龜裂，適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件，可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

PECVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品名稱	PECVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品型號(hào)	CY-PECVD-500T-SS
供電電源	AC220V 50Hz
射頻電源	信號(hào)頻率	13.56MHz
	功率輸出范圍	0~300W
	*大反射功率	100W
	反射功率 (在*大功率時(shí))	<5W
	功率穩(wěn)定性	±0.1%
工作腔體	加熱溫度	RT-400℃
	溫控精度	±1℃
	樣品臺(tái)尺寸	Φ200mm
	樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速	1-20rpm 可調(diào)
	噴頭尺寸	Φ200mm
	距離	噴頭與樣品之間的距離40-100mm連續(xù)可調(diào)
	沉積工作真空	0. 133- 133Pa （可根據(jù)工藝調(diào)整）
	法蘭	上翻蓋設(shè)計(jì)，基材易更換，并有可視窗口
	腔體	不銹鋼材質(zhì), Φ500mm * 500mm
	觀察窗	Φ40mm
供氣系統(tǒng)	通道數(shù)	定制
	測量單位	質(zhì)量流量計(jì)
	測量范圍	A 通道: 0～200SCCM for H2
		B 通道: 0～200SCCM for CH4
		C 通道: 0～200SCCM for C2H4
		D通道: 0～500SCCM for N2
		E通道: 0～500SCCM for NH3
		F通道: 0～500SCCM for Ar
	測量精度	±1.5%F.S
	工作壓差	-0.15Mpa~0.15Mpa
	連接管材質(zhì)	304 不銹鋼
	氣路	304 不銹鋼針閥
	進(jìn)氣和出氣接口規(guī)格	1/4" 卡套接頭
真空系統(tǒng)	前級泵抽速	4.7L/s
	分子泵抽速	60L/s
	真空測量	復(fù)合真空計(jì), 范圍10-5Pa ~ 105Pa
	真空度	5.0*10-3Pa
水冷機(jī)	冷卻水溫度	≦37℃
	水流速	10L/min
	功率	0.1KW
	冷卻功率	50W/℃
空壓機(jī)	OTS-550
產(chǎn)品尺寸	13627361434
產(chǎn)品重量	280公斤

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